微 X 射線熒光 (μXRF) 是一種元素分析技術(shù)，它允許檢測非常小的樣品區(qū)域。與傳統(tǒng)的 XRF 儀器一樣，微 X 射線熒光通過使用直接 X 射線激發(fā)來誘導(dǎo)來自樣品的特性 X 射線熒光發(fā)射，以用于元素分析。與傳統(tǒng) XRF 不同（其典型空間分辨率的直徑范圍從幾百微米到幾毫米），μXRF 使用 X 射線光學(xué)晶體來限制激發(fā)光束尺寸或?qū)⒓ぐl(fā)光束聚焦到樣品表面上形成小光斑，從而可以分析樣品上的小特性。傳統(tǒng) μXRF 儀器使用簡單的針孔光圈來限制樣品表面上的入射光束尺寸。只有與孔同軸的 X 射線才從光圈發(fā)射。遺憾的是，該方法阻擋了 X 射線源發(fā)射的大部分 X 射線通量，導(dǎo)致樣品上的入射通量低，這影響了該方法對微量元素進(jìn)行分析的靈敏度。

多毛細(xì)管和雙曲面彎晶聚焦 X 射線光學(xué)晶體為 μXRF 應(yīng)用提供了在樣品表面形成具有高 X 射線通量的小焦斑的替代方法。此外，這些光學(xué)晶體克服了 X 射線強(qiáng)度的負(fù)二次方對離源距離的依存性的限制，從而開發(fā)了用于內(nèi)嵌半導(dǎo)體和其他材料工業(yè)的小尺寸和低功率 μXRF 系統(tǒng)，并且開發(fā)出遠(yuǎn)程或便攜式儀器。采用 X 射線光學(xué)晶體的 μXRF 已成功用于多種應(yīng)用，包括小特性評估、元素映射、薄膜和鍍層厚度測量、微量污染物檢測、用于高級電路板的多層涂層評估、微粒分析和取證。

多毛細(xì)管聚焦光學(xué)晶體從發(fā)散 X 射線源收集 X 射線，并將它們引導(dǎo)至樣品表面上形成直徑小到幾十微米的小聚焦光束。與使用簡易針孔準(zhǔn)直器相比，由此增加的強(qiáng)度以小焦斑傳遞到樣品，可增強(qiáng)用于小特性分析的空間分辨率和微量元素測量性能。

雙曲面彎晶光學(xué)晶體將高強(qiáng)度微米級單色 X 射線束引導(dǎo)至樣品表面，用于加強(qiáng)元素分析。單色激發(fā)消除了熒光峰下的 X 射線散射本底，因此與使用針孔的 μXRF 方法相比，其測量靈敏度更高。

通過 EDXRF 或 WDXRF 結(jié)構(gòu)，使用多毛細(xì)管或雙曲面彎晶光學(xué)晶體可實(shí)現(xiàn) μXRF技術(shù)

使用雙曲面彎晶光學(xué)晶體的單色 WDXRF 對于相關(guān)的特定樣品元素具有非常高的靈敏度。該技術(shù)已成功應(yīng)用于石油產(chǎn)品中低硫含量的測定。