TEUS-LPP 緊湊型激光驅(qū)動等離子體極紫外光源基于快速旋轉(zhuǎn)液態(tài)金屬靶，這種新型LPP靶結合了傳統(tǒng)的碎片減緩技術，是清潔極紫外光源的最佳解決方案?；?/span>其亮度高、潔凈、能量抖動小等特點，非常適合大規(guī)模生產(chǎn)中基于 EUV 顯微的掩模版檢測等需要高亮度 EUV 光源的應用場景，或者小規(guī)模光刻生產(chǎn)與實驗等應用方向。經(jīng)過數(shù)臺 TEUS 的交付，已經(jīng)驗證該光源的性能及穩(wěn)定性。
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特征優(yōu)勢
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高速轉(zhuǎn)速：液滴的重定向
高轉(zhuǎn)速允許初始速度與目標線速度相當?shù)囊旱蔚慕撬俣确植及l(fā)生劇烈變化
（受授權版專利保護的關鍵要素、一般原理和技術）
高旋轉(zhuǎn)速度導致的液滴減緩效果的演示
規(guī)格參數(shù)
| 型號 | EUV收集角（sr） | 激光平均功率（W） | 脈寬（ns） | 重頻（kHz） | 等離子體尺寸*（μm） | 亮度（W/mm2sr） | EUV功率（mW） | 收集鏡** 壽命 |
| TEUS-S100 | 0.05 | 100 | 1.5 | 25 | ≤60 | 110 | 5 | >1年 |
| TEUS-S200 | 200 | 50 | 220 | 10 | >半年 | |||
| TEUS-S400 | 400 | 100 | 450 | 20 | >半年 |
* : 定義為等離子強度分部1/e2的直徑
**：收集鏡為系統(tǒng)選配
典型應用
掩膜及表面檢測
圖形化掩膜檢測(PMI)
掩膜空間像檢測(AIMS)
空白掩膜版檢測(MBI)
材料科學
晶圓檢測
極紫外掃描光刻工藝鏈中的極紫外光學器件檢測
使用環(huán)境要求
| 型號 | 供電功耗 | 尺寸（長x寬x高） | 重量（含激光部件） | 潔凈間級別 | 水流速 |
| TEUS-S100 | 6.5 kW | 1500x1000x1200 mm | 770kg | ISO7 | 10 L/min |
| TEUS-S200 | 8.5 kW | 1500x1000x1200 mm | 770kg | ISO7 | 15 L/min |
| TEUS-S400 | 10.5 kW | 1500x1000x1200 mm | 770kg | ISO7 | 25 L/min |
資料文獻
| EUV收集角（sr） | 激光平均功率（W） | 脈寬（ns） | 重頻（kHz） | 等離子體尺寸（μm） | 亮度（W/mm2sr） | EUV功率（mW） | 收集器壽命 | |
| TEUS-S100 | 0.05 | 100 | 1.5 | 25 | 60 | 110 | 5 | >1年 |
| TEUS-S200 | 200 | 50 | 220 | 10 | >半年 | |||
| TEUS-S400 | 400 | 100 | 450 | 20 | >半年 |
典型應用
掩膜及表面檢測
圖形化掩膜檢測
掩膜空間像檢測
材料科學
晶圓檢測
極紫外掃描光刻工藝鏈中的極紫外光學器件檢測